紧接着。
一个被林决规划好的消差工程节点图，出现在众人眼中。
林决声音随之传来，
“前辈们也都清楚，EUV 反射镜多层膜的原位相位非均匀性误差，是因为8 米极紫外长光程的全局波前基线失配产生的。”
“目前我们的做法和国外一样。”
“.
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.
.
.
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用11 块钼硅多层膜，通过反射镜在斜入射入，让膜层反射偏差经过 8 米的光程，11的 次反射线性累积，最后形成固定波前畸变。”
“我看了胡老给的手稿。”
“目前，我们光机所单块反射镜精度极致工艺水平，面形 0.
2n RMS，13.
5n 反射率 65%.
.
.
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.”
“对比蔡斯，ASML的成熟量产水平来看，面形差了0，反射率差也差了足足5%！”
“而在多次反射累计后.
.
.
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.
.”
“这个差距变得更大了。”
“我们全链路最终波前精度是1.
2n RMS，而ASML的，是0.
15n RMS。”
“整整8倍的差距！
！
！”
“在这个数据下，实际工况仅能完成单根纳米线的原理验证！”
“没办法.
.
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